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隨著電子顯微技術(shù)的不斷進步，如何高效、精確地制備高質(zhì)量的薄片已成為材料科學(xué)和納米技術(shù)領(lǐng)域的重要議題。作為一種常用的薄片制備方法，聚焦離子束（FIB）技術(shù)雖被廣泛應(yīng)用，但在使用過程中會涉及到高能離子及 Ga 的使用，這可能引入不必要的離子注入。為了克服這一局限性，寬離子束（BIB）技術(shù)逐漸受到關(guān)注，并展現(xiàn)出其在降低損傷、提高樣品質(zhì)量方面的優(yōu)勢。

為了更好地理解和應(yīng)用 BIB 技術(shù)，我們誠摯邀請您參加本次專題研討會。

Part.1.會議詳情

會議時間

2025 年 10 月 17 日（周五）10:00-12:00

參與方式

線上參會

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